
碳化硅具有優(yōu)良的熱力學(xué)和電化熱性能,隨著生產(chǎn)成本的降低,第一、二代的半導(dǎo)體正逐步被碳化硅所取代。目前,碳化硅是發(fā)展最成熟的第三代半導(dǎo)體原料。第三代半導(dǎo)體與前兩代環(huán)節(jié)一樣,主要分為設(shè)備、材料、晶圓、制造代工、封測、芯片、器件等。

在半導(dǎo)體行業(yè),碳化硅粉特有的高電子遷移率、高擊穿電場和優(yōu)異的熱導(dǎo)率,使得它成為制造高頻、大功率、高溫和抗輻射電子器件的理想材料。例如,制造二極管和晶體管,能夠顯著提升電力電子系統(tǒng)的效率,降低能耗。
碳化硅的主要用途為制造襯底晶片和外延片。將高純度碳化硅粉體在特殊工藝下生成碳化硅晶體,通過切割、研磨、拋光、清洗等工序,制成碳化硅襯底晶片。碳化硅襯底晶片經(jīng)過外延生長、器件制造等環(huán)節(jié),可制成碳化硅基功率器件和微波射頻器件。所以碳化硅襯底晶片是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)材料,也是發(fā)展的核心。

高純度的碳化硅粉可達到N6級別,即純度為99.9999%。碳化硅的物理性能優(yōu)越,具有高電導(dǎo)率、高熱導(dǎo)率、高禁帶寬度、低通損耗,適用于半導(dǎo)體領(lǐng)域高功率半導(dǎo)體器件的制造??梢?,碳化硅成為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表也是無可厚非的。
瀏覽次數(shù):322
瀏覽次數(shù):474
瀏覽次數(shù):512
瀏覽次數(shù):619
瀏覽次數(shù):645


